Echipament PECVD si/sau Sistem de depuneri in ultravid cu caracterizare integrata
Lot 1. Echipament PECVD:
Echipament pentru Depunere Chimica din Faza de Vapori Asistata de Plasma pentru realizarea materialelor pe baza de carbon. Echipamentul trebuie sa fie configurat in principal pentru procese de depunere/crestere pentru urmatoarele materiale: grafena, diamant nanocristalin (NCD), carbura de siliciu (SiC) si nanotuburi de carbon (CNT).
Lot 2. Sistem de depuneri in ultravid cu caracterizare integrata:
Sistem format din 3 module (echipamente) care sa indeplineasca urmatoarele functii: depunere de straturi epitaxiale din flux molecular; depunere de straturi atomice; depunere prin pulverizare catodica.
Termen limită
Termenul de primire a ofertelor a fost de 2014-08-05.
Achiziția publică a fost publicată pe 2014-06-18.
Furnizori
Următorii furnizori sunt menționați în deciziile de atribuire sau în alte documente de achiziții publice:
Cine?
Ce?
Unde?
Istoricul achizițiilor
| Data |
Document |
| 2014-06-18
|
Anunţ de participare
|
| 2014-07-11
|
Informaţii suplimentare
|
| 2014-07-14
|
Informaţii suplimentare
|
| 2014-07-17
|
Informaţii suplimentare
|
| 2014-07-21
|
Informaţii suplimentare
|
| 2014-10-02
|
Anunt de atribuire
|