Achiziții recente de către Institutul National de Cercetare-Dezvoltare pentru Fizica Materialelor
2026-04-24Deadline 2026-06-04Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) (Institutul National de Cercetare-Dezvoltare pentru Fizica Materialelor)
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, …
Vizualizați achizițiile publice »